隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展,對工藝技術(shù)的要求越來越高,特別是對半導(dǎo)體圓片的表面質(zhì)量要求越來越嚴(yán)在晶圓生產(chǎn)過程中，幾乎每個(gè)過程都需要清洗。其目的是徹底去除設(shè)備表面的顆粒、有機(jī)物和無機(jī)物的污染雜質(zhì)。圓片清洗質(zhì)量對設(shè)備性能有嚴(yán)重影響，晶圓清洗一般分為濕法清洗和干法清洗，等離子清洗屬于干式清洗，是晶圓清洗的主要方式之一。plasma等離子清洗機(jī)具有工藝簡單、操作方便、無廢物處理、環(huán)境污染等問題。它在半導(dǎo)體晶片清洗過程中，可以起到效率高、表面活化清洗干凈且有利于保證產(chǎn)品質(zhì)量。

東莞市恒芯半導(dǎo)體主營真空等離子清洗機(jī)、大氣等離子清洗機(jī)、寬幅等離子清洗機(jī)、水滴角測試儀等產(chǎn)品。公司集科研設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造、銷售服務(wù)為一體的專業(yè)化等離子清洗機(jī)基地產(chǎn)業(yè)，歡迎您來電咨詢，實(shí)地考察！