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一、清洗原理
結(jié)合需清洗材料的不同屬性，通入不同的反應(yīng)氣體，在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生等離子體。
在密閉容器中設(shè)置兩個電極形成磁場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離越來越遠，受電磁場的作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體。
同時輝光放電，等離子體在電磁場內(nèi)空間運動，對被清洗材料表面進行“轟擊”，改變材料表面性質(zhì)（清潔/粗化/刻蝕材料表面），增加表面活化能，提高表面附著力。
通過等離子清洗機進行表面處理， 提升工藝過程中材料的“結(jié)合”強度，進一步提高產(chǎn)品性能和良率，對人體、材料及環(huán)境不產(chǎn)生危害。
二、應(yīng)用行業(yè)
主要應(yīng)用于半導(dǎo)體（LED/IC/PCB）、3C類消費電子(手機、筆記本電腦）、航空、塑膠、汽車、生物醫(yī)學(xué)、五金等生產(chǎn)制造領(lǐng)域。
三、產(chǎn)品信息 (可選配）
（一）主要技術(shù)參數(shù)：
1.整機外形尺寸: 1100mm（W）×1850mm（H）×1300mm（D），外觀噴塑處理。
2.反應(yīng)倉尺寸:450mm(W)×350mm(H)×470mm(D);
電極載物板面積:330mm(W) ×380mm(D);
電極載物板層數(shù):2～6層可調(diào)。
3.電源：主系統(tǒng)電源: 380×(1±10%)V(AC) 50Hz～60Hz 三相五線。
4.等離子體頻率：射頻（13.56MHz）/中頻（40K Hz、80K Hz、100K Hz)
5.等離子電源功率：射頻0～600W（可選配0～1000W）/中頻0～1000W連續(xù)可調(diào)。
6.設(shè)備功率：≤4.5kW。
7.控制方式：采用包括觸摸屏人機界面的PLC控制，操作方式包括自動模式和手動模式。在自動模式下將不同工藝參數(shù)按照配方方式管理，可同時存儲50組不同的配方。使用時只需要將相應(yīng)配方號調(diào)出即可。設(shè)備參數(shù)分級管理，設(shè)備操作員、工藝人員、維護人員使用不同口令管理不同參數(shù)，提高設(shè)備安全性。手動模式用于實驗工藝以及設(shè)備維護維修。
8.MFC質(zhì)量流量計控制:標準配置1路（可根據(jù)客戶需求選配2～3路）。
9.氣體流量：(0～300)ml/min （標準氣壓,0℃）。
10.工作氣體(氧、氬等)接口壓力：≤0.45MPa。
11.壓縮空氣（啟動氣動角閥）接口壓力：0.5Mpa。
12.凈化冷卻氣體（氮氣）接口壓力：0.45MPa。
13.設(shè)備工作節(jié)拍：單次清洗時間≤8min（反應(yīng)時間240S左右）。
14.工作真空度：10～150Pa。
（二）反應(yīng)倉：
1.反應(yīng)倉材質(zhì)：采用高純度304不銹鋼定制，降低氧化生銹現(xiàn)象。
4.倉體左右兩側(cè)安裝有側(cè)托，用于支撐電極板。
5.清洗對象的籃具置于電極板上，電極板通過銅帶與銅電極座相連。
6.本設(shè)備提供的清洗模式為直接等離子體模式，直接等離子體模式為陽、陰電極相間放置。
7.電極可以同時安放2組～6組任意組合。電極面積為330×380(mm)，電極間距為2.5（cm）可調(diào)。
1.我們推薦使用BSV60直聯(lián)式油旋片真空泵，泵特點：風(fēng)冷，抽速快，抗氧化，耐腐蝕，維護成本低，可自行降低溫度過高的散熱體系，無需水冷。完全解決了油泵易氧化的問題。
3.泵體內(nèi)置于機柜內(nèi)部，使機器緊湊，占地面積小。
4.可根據(jù)客戶需求進行選配。
（四）自動控制系統(tǒng)：
采用PLC進行全程控制，性能穩(wěn)定，功能較全，人機界面友好，所有工藝參數(shù)，工藝過程實時監(jiān)控，并顯示運行狀態(tài)、報警記錄、工藝曲線記錄和工作時間記錄，權(quán)限等級，密碼管理等，方便維護保養(yǎng)。
(五）等離子電源：
1.為滿足在半導(dǎo)體工藝的高頻驅(qū)動等離子系統(tǒng)的性能要求而采用的進口固態(tài)半導(dǎo)體芯片的射頻/中頻電源，電源功率充足600w應(yīng)用域。其技術(shù)確保了超穩(wěn)定的輸出，此穩(wěn)定技術(shù)使功率放大性能得以優(yōu)化并降低由等離子阻抗波動造成的功率增益變化（可根據(jù)客戶需求選配0～1000W）。
2.通過編碼器和軟鍵輸入實現(xiàn)Local控制。
3.標準R232接口和A/D控制。
4.在全控制和可編程微處理器作用下，可啟動前面的控制面板。
5.控制電路確保了在高VSWR條件下的連貫性相比業(yè)界同類產(chǎn)品，我公司產(chǎn)品除以上重要組件具備相對優(yōu)勢以外，無論從其外觀設(shè)計到操作程序設(shè)計，均貫穿了人性化的理念。設(shè)備的清洗時間、潔凈壓力、射頻功率、工藝氣體流量設(shè)定可調(diào)，一鍵完成全自動工藝，實時故障報警、非法操作提示、清洗結(jié)束提示等。自動提醒系統(tǒng)維護、更換真空泵油等，避免機器過載、過老化情形下工作，延長使用壽命。
（六）場地要求：
1.電源：三相五線 單獨接地，接地電阻≤2Ω。應(yīng)使用截面積4mm2以上的接地銅線（建議使用單獨接地體，接地電阻必須≤2Ω。）將設(shè)備接至PE。
2.氣源：氮氣 0.45MPa 其它工作氣體(氧、氬、氫、氦等)：≤ 0.45MPa壓縮空氣：0.5Mpa
3.真空泵排放氣管：鋼絲增強管，管徑（外徑）φ38mm。建議將排氣管接至室外，并且在排氣管路上設(shè)置防止水、油流回的裝置。
4.場地溫度：≤40℃
5.相對濕度：RH（35-65）%
（七）安全方面：
設(shè)備具有單獨接地裝置。對涉及用戶的產(chǎn)品制造工藝、設(shè)計工藝及用途保密。
結(jié)合需清洗材料的不同屬性，通入不同的反應(yīng)氣體，在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生等離子體。
在密閉容器中設(shè)置兩個電極形成磁場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離越來越遠，受電磁場的作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體。
同時輝光放電，等離子體在電磁場內(nèi)空間運動，對被清洗材料表面進行“轟擊”，改變材料表面性質(zhì)（清潔/粗化/刻蝕材料表面），增加表面活化能，提高表面附著力。
通過等離子清洗機進行表面處理， 提升工藝過程中材料的“結(jié)合”強度，進一步提高產(chǎn)品性能和良率，對人體、材料及環(huán)境不產(chǎn)生危害。
二、應(yīng)用行業(yè)
主要應(yīng)用于半導(dǎo)體（LED/IC/PCB）、3C類消費電子(手機、筆記本電腦）、航空、塑膠、汽車、生物醫(yī)學(xué)、五金等生產(chǎn)制造領(lǐng)域。
三、產(chǎn)品信息 (可選配）
（一）主要技術(shù)參數(shù)：
1.整機外形尺寸: 1100mm（W）×1850mm（H）×1300mm（D），外觀噴塑處理。
2.反應(yīng)倉尺寸:450mm(W)×350mm(H)×470mm(D);
電極載物板面積:330mm(W) ×380mm(D);
電極載物板層數(shù):2～6層可調(diào)。
3.電源：主系統(tǒng)電源: 380×(1±10%)V(AC) 50Hz～60Hz 三相五線。
4.等離子體頻率：射頻（13.56MHz）/中頻（40K Hz、80K Hz、100K Hz)
5.等離子電源功率：射頻0～600W（可選配0～1000W）/中頻0～1000W連續(xù)可調(diào)。
6.設(shè)備功率：≤4.5kW。
7.控制方式：采用包括觸摸屏人機界面的PLC控制，操作方式包括自動模式和手動模式。在自動模式下將不同工藝參數(shù)按照配方方式管理，可同時存儲50組不同的配方。使用時只需要將相應(yīng)配方號調(diào)出即可。設(shè)備參數(shù)分級管理，設(shè)備操作員、工藝人員、維護人員使用不同口令管理不同參數(shù)，提高設(shè)備安全性。手動模式用于實驗工藝以及設(shè)備維護維修。
8.MFC質(zhì)量流量計控制:標準配置1路（可根據(jù)客戶需求選配2～3路）。
9.氣體流量：(0～300)ml/min （標準氣壓,0℃）。
10.工作氣體(氧、氬等)接口壓力：≤0.45MPa。
11.壓縮空氣（啟動氣動角閥）接口壓力：0.5Mpa。
12.凈化冷卻氣體（氮氣）接口壓力：0.45MPa。
13.設(shè)備工作節(jié)拍：單次清洗時間≤8min（反應(yīng)時間240S左右）。
14.工作真空度：10～150Pa。
（二）反應(yīng)倉：
1.反應(yīng)倉材質(zhì)：采用高純度304不銹鋼定制，降低氧化生銹現(xiàn)象。
2.電極板（托盤）材質(zhì)：采用鋁合金或高純度304不銹鋼定制，降低氧化生銹現(xiàn)象。
3.反應(yīng)倉后部安裝有銅電極座，水平電極板通過該接口鎖定，牢固可靠，更有助于射頻源的穩(wěn)定輸出。4.倉體左右兩側(cè)安裝有側(cè)托，用于支撐電極板。
5.清洗對象的籃具置于電極板上，電極板通過銅帶與銅電極座相連。
6.本設(shè)備提供的清洗模式為直接等離子體模式，直接等離子體模式為陽、陰電極相間放置。
7.電極可以同時安放2組～6組任意組合。電極面積為330×380(mm)，電極間距為2.5（cm）可調(diào)。
8.反應(yīng)倉真空平衡方面做了改進，平衡閥能夠迅速解壓（10~30秒內(nèi)），避免了長時間等待平衡時間，提高了生產(chǎn)效率。
（三）真空泵：1.我們推薦使用BSV60直聯(lián)式油旋片真空泵，泵特點：風(fēng)冷，抽速快，抗氧化，耐腐蝕，維護成本低，可自行降低溫度過高的散熱體系，無需水冷。完全解決了油泵易氧化的問題。
（可根據(jù)客戶需求選配其他品牌）。
2.耗電低，噪音小，使用壽命長。3.泵體內(nèi)置于機柜內(nèi)部，使機器緊湊，占地面積小。
4.可根據(jù)客戶需求進行選配。
（四）自動控制系統(tǒng)：
采用PLC進行全程控制，性能穩(wěn)定，功能較全，人機界面友好，所有工藝參數(shù)，工藝過程實時監(jiān)控，并顯示運行狀態(tài)、報警記錄、工藝曲線記錄和工作時間記錄，權(quán)限等級，密碼管理等，方便維護保養(yǎng)。
(五）等離子電源：
1.為滿足在半導(dǎo)體工藝的高頻驅(qū)動等離子系統(tǒng)的性能要求而采用的進口固態(tài)半導(dǎo)體芯片的射頻/中頻電源，電源功率充足600w應(yīng)用域。其技術(shù)確保了超穩(wěn)定的輸出，此穩(wěn)定技術(shù)使功率放大性能得以優(yōu)化并降低由等離子阻抗波動造成的功率增益變化（可根據(jù)客戶需求選配0～1000W）。
2.通過編碼器和軟鍵輸入實現(xiàn)Local控制。
3.標準R232接口和A/D控制。
4.在全控制和可編程微處理器作用下，可啟動前面的控制面板。
5.控制電路確保了在高VSWR條件下的連貫性相比業(yè)界同類產(chǎn)品，我公司產(chǎn)品除以上重要組件具備相對優(yōu)勢以外，無論從其外觀設(shè)計到操作程序設(shè)計，均貫穿了人性化的理念。設(shè)備的清洗時間、潔凈壓力、射頻功率、工藝氣體流量設(shè)定可調(diào)，一鍵完成全自動工藝，實時故障報警、非法操作提示、清洗結(jié)束提示等。自動提醒系統(tǒng)維護、更換真空泵油等，避免機器過載、過老化情形下工作，延長使用壽命。
（六）場地要求：
1.電源：三相五線 單獨接地，接地電阻≤2Ω。應(yīng)使用截面積4mm2以上的接地銅線（建議使用單獨接地體，接地電阻必須≤2Ω。）將設(shè)備接至PE。
2.氣源：氮氣 0.45MPa 其它工作氣體(氧、氬、氫、氦等)：≤ 0.45MPa壓縮空氣：0.5Mpa
3.真空泵排放氣管：鋼絲增強管，管徑（外徑）φ38mm。建議將排氣管接至室外，并且在排氣管路上設(shè)置防止水、油流回的裝置。
4.場地溫度：≤40℃
5.相對濕度：RH（35-65）%
（七）安全方面：
設(shè)備具有單獨接地裝置。對涉及用戶的產(chǎn)品制造工藝、設(shè)計工藝及用途保密。
產(chǎn)品詳情
一、清洗原理
結(jié)合需清洗材料的不同屬性，通入不同的反應(yīng)氣體，在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生等離子體。
在密閉容器中設(shè)置兩個電極形成磁場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離越來越遠，受電磁場的作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體。
同時輝光放電，等離子體在電磁場內(nèi)空間運動，對被清洗材料表面進行“轟擊”，改變材料表面性質(zhì)（清潔/粗化/刻蝕材料表面），增加表面活化能，提高表面附著力。
通過等離子清洗機進行表面處理， 提升工藝過程中材料的“結(jié)合”強度，進一步提高產(chǎn)品性能和良率，對人體、材料及環(huán)境不產(chǎn)生危害。
二、應(yīng)用行業(yè)
主要應(yīng)用于半導(dǎo)體（LED/IC/PCB）、3C類消費電子(手機、筆記本電腦）、航空、塑膠、汽車、生物醫(yī)學(xué)、五金等生產(chǎn)制造領(lǐng)域。
三、產(chǎn)品信息 (可選配）
（一）主要技術(shù)參數(shù)：
1.整機外形尺寸: 1100mm（W）×1850mm（H）×1300mm（D），外觀噴塑處理。
2.反應(yīng)倉尺寸:450mm(W)×350mm(H)×470mm(D);
電極載物板面積:330mm(W) ×380mm(D);
電極載物板層數(shù):2～6層可調(diào)。
3.電源：主系統(tǒng)電源: 380×(1±10%)V(AC) 50Hz～60Hz 三相五線。
4.等離子體頻率：射頻（13.56MHz）/中頻（40K Hz、80K Hz、100K Hz)
5.等離子電源功率：射頻0～600W（可選配0～1000W）/中頻0～1000W連續(xù)可調(diào)。
6.設(shè)備功率：≤4.5kW。
7.控制方式：采用包括觸摸屏人機界面的PLC控制，操作方式包括自動模式和手動模式。在自動模式下將不同工藝參數(shù)按照配方方式管理，可同時存儲50組不同的配方。使用時只需要將相應(yīng)配方號調(diào)出即可。設(shè)備參數(shù)分級管理，設(shè)備操作員、工藝人員、維護人員使用不同口令管理不同參數(shù)，提高設(shè)備安全性。手動模式用于實驗工藝以及設(shè)備維護維修。
8.MFC質(zhì)量流量計控制:標準配置1路（可根據(jù)客戶需求選配2～3路）。
9.氣體流量：(0～300)ml/min （標準氣壓,0℃）。
10.工作氣體(氧、氬等)接口壓力：≤0.45MPa。
11.壓縮空氣（啟動氣動角閥）接口壓力：0.5Mpa。
12.凈化冷卻氣體（氮氣）接口壓力：0.45MPa。
13.設(shè)備工作節(jié)拍：單次清洗時間≤8min（反應(yīng)時間240S左右）。
14.工作真空度：10～150Pa。
（二）反應(yīng)倉：
1.反應(yīng)倉材質(zhì)：采用高純度304不銹鋼定制，降低氧化生銹現(xiàn)象。
4.倉體左右兩側(cè)安裝有側(cè)托，用于支撐電極板。
5.清洗對象的籃具置于電極板上，電極板通過銅帶與銅電極座相連。
6.本設(shè)備提供的清洗模式為直接等離子體模式，直接等離子體模式為陽、陰電極相間放置。
7.電極可以同時安放2組～6組任意組合。電極面積為330×380(mm)，電極間距為2.5（cm）可調(diào)。
1.我們推薦使用BSV60直聯(lián)式油旋片真空泵，泵特點：風(fēng)冷，抽速快，抗氧化，耐腐蝕，維護成本低，可自行降低溫度過高的散熱體系，無需水冷。完全解決了油泵易氧化的問題。
3.泵體內(nèi)置于機柜內(nèi)部，使機器緊湊，占地面積小。
4.可根據(jù)客戶需求進行選配。
（四）自動控制系統(tǒng)：
采用PLC進行全程控制，性能穩(wěn)定，功能較全，人機界面友好，所有工藝參數(shù)，工藝過程實時監(jiān)控，并顯示運行狀態(tài)、報警記錄、工藝曲線記錄和工作時間記錄，權(quán)限等級，密碼管理等，方便維護保養(yǎng)。
(五）等離子電源：
1.為滿足在半導(dǎo)體工藝的高頻驅(qū)動等離子系統(tǒng)的性能要求而采用的進口固態(tài)半導(dǎo)體芯片的射頻/中頻電源，電源功率充足600w應(yīng)用域。其技術(shù)確保了超穩(wěn)定的輸出，此穩(wěn)定技術(shù)使功率放大性能得以優(yōu)化并降低由等離子阻抗波動造成的功率增益變化（可根據(jù)客戶需求選配0～1000W）。
2.通過編碼器和軟鍵輸入實現(xiàn)Local控制。
3.標準R232接口和A/D控制。
4.在全控制和可編程微處理器作用下，可啟動前面的控制面板。
5.控制電路確保了在高VSWR條件下的連貫性相比業(yè)界同類產(chǎn)品，我公司產(chǎn)品除以上重要組件具備相對優(yōu)勢以外，無論從其外觀設(shè)計到操作程序設(shè)計，均貫穿了人性化的理念。設(shè)備的清洗時間、潔凈壓力、射頻功率、工藝氣體流量設(shè)定可調(diào)，一鍵完成全自動工藝，實時故障報警、非法操作提示、清洗結(jié)束提示等。自動提醒系統(tǒng)維護、更換真空泵油等，避免機器過載、過老化情形下工作，延長使用壽命。
（六）場地要求：
1.電源：三相五線 單獨接地，接地電阻≤2Ω。應(yīng)使用截面積4mm2以上的接地銅線（建議使用單獨接地體，接地電阻必須≤2Ω。）將設(shè)備接至PE。
2.氣源：氮氣 0.45MPa 其它工作氣體(氧、氬、氫、氦等)：≤ 0.45MPa壓縮空氣：0.5Mpa
3.真空泵排放氣管：鋼絲增強管，管徑（外徑）φ38mm。建議將排氣管接至室外，并且在排氣管路上設(shè)置防止水、油流回的裝置。
4.場地溫度：≤40℃
5.相對濕度：RH（35-65）%
（七）安全方面：
設(shè)備具有單獨接地裝置。對涉及用戶的產(chǎn)品制造工藝、設(shè)計工藝及用途保密。
結(jié)合需清洗材料的不同屬性，通入不同的反應(yīng)氣體，在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生等離子體。
在密閉容器中設(shè)置兩個電極形成磁場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離越來越遠，受電磁場的作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體。
同時輝光放電，等離子體在電磁場內(nèi)空間運動，對被清洗材料表面進行“轟擊”，改變材料表面性質(zhì)（清潔/粗化/刻蝕材料表面），增加表面活化能，提高表面附著力。
通過等離子清洗機進行表面處理， 提升工藝過程中材料的“結(jié)合”強度，進一步提高產(chǎn)品性能和良率，對人體、材料及環(huán)境不產(chǎn)生危害。
二、應(yīng)用行業(yè)
主要應(yīng)用于半導(dǎo)體（LED/IC/PCB）、3C類消費電子(手機、筆記本電腦）、航空、塑膠、汽車、生物醫(yī)學(xué)、五金等生產(chǎn)制造領(lǐng)域。
三、產(chǎn)品信息 (可選配）
（一）主要技術(shù)參數(shù)：
1.整機外形尺寸: 1100mm（W）×1850mm（H）×1300mm（D），外觀噴塑處理。
2.反應(yīng)倉尺寸:450mm(W)×350mm(H)×470mm(D);
電極載物板面積:330mm(W) ×380mm(D);
電極載物板層數(shù):2～6層可調(diào)。
3.電源：主系統(tǒng)電源: 380×(1±10%)V(AC) 50Hz～60Hz 三相五線。
4.等離子體頻率：射頻（13.56MHz）/中頻（40K Hz、80K Hz、100K Hz)
5.等離子電源功率：射頻0～600W（可選配0～1000W）/中頻0～1000W連續(xù)可調(diào)。
6.設(shè)備功率：≤4.5kW。
7.控制方式：采用包括觸摸屏人機界面的PLC控制，操作方式包括自動模式和手動模式。在自動模式下將不同工藝參數(shù)按照配方方式管理，可同時存儲50組不同的配方。使用時只需要將相應(yīng)配方號調(diào)出即可。設(shè)備參數(shù)分級管理，設(shè)備操作員、工藝人員、維護人員使用不同口令管理不同參數(shù)，提高設(shè)備安全性。手動模式用于實驗工藝以及設(shè)備維護維修。
8.MFC質(zhì)量流量計控制:標準配置1路（可根據(jù)客戶需求選配2～3路）。
9.氣體流量：(0～300)ml/min （標準氣壓,0℃）。
10.工作氣體(氧、氬等)接口壓力：≤0.45MPa。
11.壓縮空氣（啟動氣動角閥）接口壓力：0.5Mpa。
12.凈化冷卻氣體（氮氣）接口壓力：0.45MPa。
13.設(shè)備工作節(jié)拍：單次清洗時間≤8min（反應(yīng)時間240S左右）。
14.工作真空度：10～150Pa。
（二）反應(yīng)倉：
1.反應(yīng)倉材質(zhì)：采用高純度304不銹鋼定制，降低氧化生銹現(xiàn)象。
2.電極板（托盤）材質(zhì)：采用鋁合金或高純度304不銹鋼定制，降低氧化生銹現(xiàn)象。
3.反應(yīng)倉后部安裝有銅電極座，水平電極板通過該接口鎖定，牢固可靠，更有助于射頻源的穩(wěn)定輸出。4.倉體左右兩側(cè)安裝有側(cè)托，用于支撐電極板。
5.清洗對象的籃具置于電極板上，電極板通過銅帶與銅電極座相連。
6.本設(shè)備提供的清洗模式為直接等離子體模式，直接等離子體模式為陽、陰電極相間放置。
7.電極可以同時安放2組～6組任意組合。電極面積為330×380(mm)，電極間距為2.5（cm）可調(diào)。
8.反應(yīng)倉真空平衡方面做了改進，平衡閥能夠迅速解壓（10~30秒內(nèi)），避免了長時間等待平衡時間，提高了生產(chǎn)效率。
（三）真空泵：1.我們推薦使用BSV60直聯(lián)式油旋片真空泵，泵特點：風(fēng)冷，抽速快，抗氧化，耐腐蝕，維護成本低，可自行降低溫度過高的散熱體系，無需水冷。完全解決了油泵易氧化的問題。
（可根據(jù)客戶需求選配其他品牌）。
2.耗電低，噪音小，使用壽命長。3.泵體內(nèi)置于機柜內(nèi)部，使機器緊湊，占地面積小。
4.可根據(jù)客戶需求進行選配。
（四）自動控制系統(tǒng)：
采用PLC進行全程控制，性能穩(wěn)定，功能較全，人機界面友好，所有工藝參數(shù)，工藝過程實時監(jiān)控，并顯示運行狀態(tài)、報警記錄、工藝曲線記錄和工作時間記錄，權(quán)限等級，密碼管理等，方便維護保養(yǎng)。
(五）等離子電源：
1.為滿足在半導(dǎo)體工藝的高頻驅(qū)動等離子系統(tǒng)的性能要求而采用的進口固態(tài)半導(dǎo)體芯片的射頻/中頻電源，電源功率充足600w應(yīng)用域。其技術(shù)確保了超穩(wěn)定的輸出，此穩(wěn)定技術(shù)使功率放大性能得以優(yōu)化并降低由等離子阻抗波動造成的功率增益變化（可根據(jù)客戶需求選配0～1000W）。
2.通過編碼器和軟鍵輸入實現(xiàn)Local控制。
3.標準R232接口和A/D控制。
4.在全控制和可編程微處理器作用下，可啟動前面的控制面板。
5.控制電路確保了在高VSWR條件下的連貫性相比業(yè)界同類產(chǎn)品，我公司產(chǎn)品除以上重要組件具備相對優(yōu)勢以外，無論從其外觀設(shè)計到操作程序設(shè)計，均貫穿了人性化的理念。設(shè)備的清洗時間、潔凈壓力、射頻功率、工藝氣體流量設(shè)定可調(diào)，一鍵完成全自動工藝，實時故障報警、非法操作提示、清洗結(jié)束提示等。自動提醒系統(tǒng)維護、更換真空泵油等，避免機器過載、過老化情形下工作，延長使用壽命。
（六）場地要求：
1.電源：三相五線 單獨接地，接地電阻≤2Ω。應(yīng)使用截面積4mm2以上的接地銅線（建議使用單獨接地體，接地電阻必須≤2Ω。）將設(shè)備接至PE。
2.氣源：氮氣 0.45MPa 其它工作氣體(氧、氬、氫、氦等)：≤ 0.45MPa壓縮空氣：0.5Mpa
3.真空泵排放氣管：鋼絲增強管，管徑（外徑）φ38mm。建議將排氣管接至室外，并且在排氣管路上設(shè)置防止水、油流回的裝置。
4.場地溫度：≤40℃
5.相對濕度：RH（35-65）%
（七）安全方面：
設(shè)備具有單獨接地裝置。對涉及用戶的產(chǎn)品制造工藝、設(shè)計工藝及用途保密。
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