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恒芯plasma等離子清洗機設備常plasma等離子清洗的機主要是活性粒子的物理(li)作用和化學作用,那么在清洗不同的材料時,選擇正確的介質氣體,可收到事半功倍的效果。材料,可以大致分為金屬和非金屬兩種,其中金屬清洗的目的是主要是去除表面氧化物和有機物,非金屬清洗主要是去除表面有機污染物,根據反應機理(li),氣體有兩種分類,一種是反應性氣體(化學作用),主要是氫氣、氧氣、四氟化碳等;另一類是非反應性氣體,主要有氬氣、氦氣、氮氣。
1、氬氣:氬氣清理的原理是物理轟擊表面。氬氣在物理上很有效,因為它有很大的原子尺寸,能夠以很大的能量穿透產品表面層。正氬離子被負極板所吸引,撞擊力使表面的所有污漬都消失,然后氣體污染物將隨泵一起排放。
2、氧:與產品表面的化學物質發生有機化學反應。例如,氧可以合理去除有機化學污染物,與污染物反應生成二氧化碳、一氧化碳和水。一般而言,化學反應易于去除有機污染物。
3、氫:氫可以用來去除金屬表面的氧化物。常與氬混合,提高清(qing)除污垢的能力。人們普遍關注氫的可燃性和氫的儲氫用途問題,我們可以用氫氣產生器從水中造氫,排除潛在安全隱患。
4、cf4/sf6:氟化氣體一般用于半導體材料和pwb(印刷線路板)等工業生產中,pads工藝流程中使用的氟化氣體將氧化物轉化成氯化物,從而實現了無流動焊接。
在實際清洗中,單一的利用物理或化學作用效果欠佳,更多是充入混合氣體,同時利用兩種或以上的混合氣體以得到更好的清洗效果。比如氬氣和氧氣的結合,氬離子采用物理轟擊被清洗表面污物,氧氣與表面污物發生氧化反應,并且當氬氣和氧氣分子一經碰撞便可以使電荷轉換并結合,形成新的活性原理,使電離和離子能量得到很大程度的降低,同時會產生更多的活性粒子,此時,清洗效果已經達到1+1>2的效果。
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東莞市恒芯半導體設備有限公司,坐落于“世界工廠”之稱的粵港澳大灣區,是一家集研發設計、生產 制造、銷售服務為一體的專業化等離子技術應用基地企業。 公司主打:離線及在線式真空/大氣等離子清洗設備、水滴角測試儀等產品,配套研發等離子電源、氣體 質量流量計等配件。產品廣泛應用于微電子、半導體、新能源、3C電子、航空、汽車、包裝印刷、生物 醫療、新型復合材料等行業,以及科研所和高校的實驗項目。大家有任何等離子清洗機的需求隨時聯系我們,我們隨時為您服務。
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