真空等離子清洗機plasma )是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。目前市面上常見的等離子表面處理設備主要分為兩類，大氣等離子清洗機和真空等離子清洗機。兩種設備的區別在哪里？大家一起來探討一下吧。

      ⑴大氣等離子清洗機：

         一般采用空氣作為生（sheng)發氣體。特點是氣體的需求量非常高，工業應用上常用中頻作為激發能源，頻率在39KHZ左右。等離子工作形態以直噴跟旋轉兩種比較常見。設備工作過程中會產生超標的臭氧與氮氧化物等對人有害的氣體，所

以必須要配套廢氣排放系統一同工作。因為特性，大氣等離子主要適用于對處理效果要求高，并且后續運行成本低的行業，例如手機蓋板，手機保護膜等行業。

      ⑵真空等離子清洗機：

         真空型等離子清洗機就沒那么復雜，按電源頻率劃分，40KHz和13.56MHz為例：通常情況下材料放入腔體內工作，頻率為40KHz一般溫度為65°以下，再者機器內部裝有強冷風扇，處理時間不長的話，材料表面溫度都會跟室溫一致。頻率為13.56MHz的就會更低，通常情況是30°以下。所以處理一些受熱易發生形變的材料，低溫真空型等離子清洗機的是在再適合不過了。

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