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先從清洗方式而言,等離子清洗機屬于干法清洗,超聲波清洗機屬于濕法清洗;
等離子清洗機只需要用到各類的氣體,例如氧氣,氮氣,氬氣,空氣,CF4等氣體,無需引入別的有機溶劑及水,對產品無污染,對壞境亦無太大影響;而超聲波清洗則需要引入其他有機溶劑以及水,通過超聲波的震動作用下對基材進行清洗,而一般的剩余有機溶液還需要經過收集處理且本身基材表面會有一定的有機溶劑殘留,而要把這表面的有機溶液祛除還要其他工藝。
從原理上來說等離子清洗是在密封的真空腔內,到達一定的低壓時,往真空倉內充入工作氣體,再由射頻電源把氣體分子電離成等離子體,等離子體在電場激勵下通過物理轟擊以及化學反應作用于基材表面,產生的剩余物質通過抽真空系統排出,從而達到清洗效果;而超聲波清洗則通過有機溶液與水,通過超聲波的震動將基材表面的可見污染物震蕩下來或者溶液有機溶劑,從而達到清洗效果。
從工藝上來說等離子清洗機是微觀層面的清洗,清洗強度是納米級的,能清洗基材的表面以及看不見的細縫,有一定的物理刻蝕作用,且能破壞基材表面的化學鍵,引入新的活性基團如羥基和羧基等,還能祛除有機污染物,以此提高基材的清水性,表面活性等。等離子清洗廣泛應用于半導體封裝、醫療器械的清洗、汽車零配件應用領域等等;而超聲波清洗大部分是清洗肉眼可觀的污染物,只能清洗基材的外部,可祛除基材表面的有機物以及粉塵一類的無機物。超聲波清洗普遍應用于鐘表首飾行業、光學行業、紡織印刷行業等。
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